Investigadores ligados ao Instituto Superior Técnico, em Lisboa, desenvolveram uma tecnologia baseada em N-grafeno que permite reduzir a assinatura de radar de drones, aeronaves e outros equipamentos. A solução consiste na aplicação de revestimentos capazes de absorver ondas eletromagnéticas numa ampla gama de frequências, dificultando a deteção por sistemas de radar.
A tecnologia foi criada pela GTechPlasma, uma spin-off do IST, que utiliza um processo baseado em plasma para produzir grafeno e diferentes variantes deste material. Uma das principais vantagens apontadas pelos investigadores é a capacidade de obter materiais de elevada qualidade com reduzida espessura, mantendo propriedades de elevada absorção eletromagnética. O projeto contou com financiamento europeu, nacional e da NATO, e resulta de vários anos de investigação.
Além das aplicações no setor da defesa, a tecnologia pode ser utilizada em áreas civis, nomeadamente na blindagem eletromagnética. A equipa está ainda a estudar outras utilizações, incluindo o armazenamento de hidrogénio, a recuperação seletiva de urânio e terras raras, e a conversão de dióxido de carbono. A GTechPlasma detém atualmente oito patentes concedidas internacionalmente.
Como parte da expansão industrial da tecnologia, a empresa Plasmaphene licenciou a solução e prepara a construção de uma fábrica em Vila Viçosa, num investimento de 7,5 milhões de euros. A unidade será destinada à produção de grafeno e N-grafeno, dando uma dimensão industrial a uma tecnologia desenvolvida no meio académico português.
Investigadores ligados ao Instituto Superior Técnico (IST), em Lisboa, desenvolveram uma tecnologia baseada em N-grafeno que poderá ser utilizada para reduzir a assinatura de radar de drones, aeronaves e outros equipamentos avança o Jornal Económico. A solução passa pela aplicação de revestimentos capazes de absorver ondas eletromagnéticas numa ampla gama de frequências, dificultando a deteção por sistemas de radar.
A tecnologia foi desenvolvida pela GTechPlasma, uma spin-off do IST, que utiliza um processo baseado em plasma para produzir grafeno e diferentes variantes deste material. Segundo os investigadores, uma das principais vantagens da solução é conseguir obter materiais de elevada qualidade e com reduzida espessura, mantendo propriedades de elevada absorção eletromagnética.
Embora tenha aplicações no setor da defesa, a tecnologia poderá também ser utilizada em áreas civis, nomeadamente na blindagem eletromagnética. A equipa está ainda a estudar outras utilizações dos materiais desenvolvidos, incluindo o armazenamento de hidrogénio, a recuperação seletiva de urânio e terras raras e a conversão de dióxido de carbono.
O projeto resulta de vários anos de investigação e contou com financiamento europeu, nacional e da NATO, tendo permitido levar a tecnologia até uma escala próxima da industrial. A GTechPlasma conta atualmente com oito patentes concedidas internacionalmente.
Como parte da expansão industrial desta tecnologia, a empresa Plasmaphene licenciou a solução e prepara a construção de uma fábrica em Vila Viçosa, num investimento de 7,5 milhões de euros. A unidade será destinada à produção de grafeno e N-grafeno, dando uma dimensão industrial a uma tecnologia desenvolvida no meio académico português.
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