Des chercheurs affiliés à l'Institut supérieur technique de Lisbonne ont développé une technologie basée sur le N-graphène qui permet de réduire la signature radar des drones, des aéronefs et d'autres équipements. La solution consiste en l'application de revêtements capables d'absorber les ondes électromagnétiques sur une large gamme de fréquences, rendant la détection par les systèmes radar plus difficile.
La technologie a été créée par GTechPlasma, une spin-off de l'IST, qui utilise un processus basé sur le plasma pour produire du graphène et différentes variantes de ce matériau. L'un des principaux avantages signalés par les chercheurs est la capacité d'obtenir des matériaux de haute qualité avec une épaisseur réduite, tout en maintenant des propriétés d'absorption électromagnétique élevée. Le projet a bénéficié d'un financement européen, national et de l'OTAN, et résulte de plusieurs années de recherche.
En plus des applications dans le secteur de la défense, la technologie peut être utilisée dans des domaines civils, notamment le blindage électromagnétique. L'équipe étudie également d'autres utilisations, notamment le stockage d'hydrogène, la récupération sélective d'uranium et de terres rares, et la conversion du dioxyde de carbone. GTechPlasma détient actuellement huit brevets accordés au niveau international.
Dans le cadre de l'expansion industrielle de la technologie, l'entreprise Plasmaphene a concédé une licence pour la solution et prépare la construction d'une usine à Vila Viçosa, dans un investissement de 7,5 millions d'euros. L'unité sera destinée à la production de graphène et de N-graphène, donnant une dimension industrielle à une technologie développée dans le milieu académique portugais.
Investigadores ligados ao Instituto Superior Técnico (IST), em Lisboa, desenvolveram uma tecnologia baseada em N-grafeno que poderá ser utilizada para reduzir a assinatura de radar de drones, aeronaves e outros equipamentos avança o Jornal Económico. A solução passa pela aplicação de revestimentos capazes de absorver ondas eletromagnéticas numa ampla gama de frequências, dificultando a deteção por sistemas de radar.
A tecnologia foi desenvolvida pela GTechPlasma, uma spin-off do IST, que utiliza um processo baseado em plasma para produzir grafeno e diferentes variantes deste material. Segundo os investigadores, uma das principais vantagens da solução é conseguir obter materiais de elevada qualidade e com reduzida espessura, mantendo propriedades de elevada absorção eletromagnética.
Embora tenha aplicações no setor da defesa, a tecnologia poderá também ser utilizada em áreas civis, nomeadamente na blindagem eletromagnética. A equipa está ainda a estudar outras utilizações dos materiais desenvolvidos, incluindo o armazenamento de hidrogénio, a recuperação seletiva de urânio e terras raras e a conversão de dióxido de carbono.
O projeto resulta de vários anos de investigação e contou com financiamento europeu, nacional e da NATO, tendo permitido levar a tecnologia até uma escala próxima da industrial. A GTechPlasma conta atualmente com oito patentes concedidas internacionalmente.
Como parte da expansão industrial desta tecnologia, a empresa Plasmaphene licenciou a solução e prepara a construção de uma fábrica em Vila Viçosa, num investimento de 7,5 milhões de euros. A unidade será destinada à produção de grafeno e N-grafeno, dando uma dimensão industrial a uma tecnologia desenvolvida no meio académico português.
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