Forscher des Instituto Superior Técnico in Lissabon haben eine auf N-Graphen basierende Technologie entwickelt, die die Radarsignatur von Drohnen, Flugzeugen und anderen Geräten reduzieren kann. Die Lösung besteht aus Beschichtungen, die elektromagnetische Wellen in einem breiten Frequenzbereich absorbieren und so die Erkennung durch Radarsysteme erschweren.
Die Technologie wurde von GTechPlasma entwickelt, einem Spin-off des IST, das ein auf Plasma basierendes Verfahren zur Produktion von Graphen und verschiedenen Varianten dieses Materials verwendet. Ein wesentlicher Vorteil, der von den Forschern hervorgehoben wird, ist die Fähigkeit, Materialien von hoher Qualität mit geringer Dicke herzustellen, wobei hohe elektromagnetische Absorptionseigenschaften erhalten bleiben. Das Projekt wurde durch europäische, nationale und NATO-Finanzierung unterstützt und resultiert aus mehrjähriger Forschung.
Neben Anwendungen im Verteidigungssektor kann die Technologie auch in zivilen Bereichen eingesetzt werden, insbesondere bei der elektromagnetischen Abschirmung. Das Team untersucht zudem weitere Verwendungszwecke, darunter Wasserstoffspeicherung, selektive Rückgewinnung von Uran und Seltenen Erden sowie die Umwandlung von Kohlendioxid. GTechPlasma hält derzeit acht international erteilte Patente.
Im Rahmen der industriellen Expansion der Technologie hat das Unternehmen Plasmaphene die Lösung lizenziert und bereitet den Bau einer Fabrik in Vila Viçosa vor, mit einer Investition von 7,5 Millionen Euro. Die Anlage wird der Produktion von Graphen und N-Graphen dienen und einer Technologie, die an einer portugiesischen Hochschule entwickelt wurde, zu industrieller Dimension verhelfen.
Investigadores ligados ao Instituto Superior Técnico (IST), em Lisboa, desenvolveram uma tecnologia baseada em N-grafeno que poderá ser utilizada para reduzir a assinatura de radar de drones, aeronaves e outros equipamentos avança o Jornal Económico. A solução passa pela aplicação de revestimentos capazes de absorver ondas eletromagnéticas numa ampla gama de frequências, dificultando a deteção por sistemas de radar.
A tecnologia foi desenvolvida pela GTechPlasma, uma spin-off do IST, que utiliza um processo baseado em plasma para produzir grafeno e diferentes variantes deste material. Segundo os investigadores, uma das principais vantagens da solução é conseguir obter materiais de elevada qualidade e com reduzida espessura, mantendo propriedades de elevada absorção eletromagnética.
Embora tenha aplicações no setor da defesa, a tecnologia poderá também ser utilizada em áreas civis, nomeadamente na blindagem eletromagnética. A equipa está ainda a estudar outras utilizações dos materiais desenvolvidos, incluindo o armazenamento de hidrogénio, a recuperação seletiva de urânio e terras raras e a conversão de dióxido de carbono.
O projeto resulta de vários anos de investigação e contou com financiamento europeu, nacional e da NATO, tendo permitido levar a tecnologia até uma escala próxima da industrial. A GTechPlasma conta atualmente com oito patentes concedidas internacionalmente.
Como parte da expansão industrial desta tecnologia, a empresa Plasmaphene licenciou a solução e prepara a construção de uma fábrica em Vila Viçosa, num investimento de 7,5 milhões de euros. A unidade será destinada à produção de grafeno e N-grafeno, dando uma dimensão industrial a uma tecnologia desenvolvida no meio académico português.
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